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產品展示/ Product display

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  • GM2000實驗室研磨機

    實驗室研磨機是科研專用小型研磨設備,采用球磨、行星式或剪切研磨技術,可將固體物料細化至微米甚至納米級別。具有體積小巧、操作簡便、研磨精度高、樣品損耗小等特點,適配礦石、粉末、生物樣本等多種物料,廣泛應用于材料、化工、醫藥等領域的實驗研發,為后續分析或制備提供均勻物料。

    更新時間

    2025-11-06

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    25

  • GMD2000樹脂乳化納米級研磨設備

    樹脂乳化納米級研磨設備專攻樹脂物料的高效乳化設備,依托高剪切技術與三級分散頭設計,可將物料細化至 50-350nm,粒徑分布窄且穩定性強。設備結構緊湊、操作便捷,符合清潔標準,支持連續作業與工藝放大,適用于涂料、膠粘劑、化工等領域的研發與量產。

    更新時間

    2025-11-06

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    31

  • GMD2000納米氧化鋅剪切研磨機

    納米氧化鋅剪切研磨機是專用于氧化鋅物料納米級加工的設備,通過高速剪切、研磨與分散作用,將氧化鋅顆粒細化至納米尺度,同時保證顆粒均勻性。它廣泛應用于橡膠、涂料、化妝品等領域,能提升產品性能。設備具備細化效率高、粒徑可控、運行穩定的特點,適配工業化連續生產需求。

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    2025-11-05

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    47

  • GMD2000研磨乳化機

    研磨乳化機是兼具研磨細化與乳化分散功能的專用設備,通過高速定轉子剪切、研磨珠碰撞,同時實現物料顆粒細化與相際混合。?它能破除團聚、細化粒徑至微米級,讓油水等不相容物料形成穩定乳化體系,適配涂料、化妝品、食品等領域,設備易清潔、參數可調,滿足多類產品生產需求。

    更新時間

    2025-10-29

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    133

  • GMD2000氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機

    氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機通過高剪切膠體磨與分散機協同工作:膠體磨利用定轉子高速相對運動(轉速可達數千轉/分鐘),產生強烈剪切、沖擊和研磨力,將漿料中團聚顆粒破碎細化;隨后分散機進一步打散微小顆粒,實現均勻分散,最終獲得粒徑達標、穩定性好的陶瓷隔膜漿料。

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    2025-10-17

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    208

  • GMD2000濕法研磨機

    濕法研磨機是物料濕法超細粉碎核心設備,適配涂料、新能源等領域。通過研磨介質(如鋯珠)與高速運動部件的沖擊、剪切,將漿料中顆粒細化至微米/納米級。具備溫控、變頻調速功能,研磨效率高且粒徑分布均勻,可連續或批次作業,滿足工業化生產對物料細度的嚴苛要求。

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    2025-10-16

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  • GMSD2000石墨烯剝離研磨分散機

    石墨烯剝離研磨分散機是用于制備高質量石墨烯的關鍵設備,主要通過機械剪切、空化等作用剝離石墨片層并分散石墨烯。 其工作原理是利用高速旋轉的轉子與定子產生強剪切力,使石墨混合物在定轉子間隙中不斷受到撞擊、破碎、研磨和分散。同時,部分設備還結合液力旋渦空化技術,通過空泡的崩潰產生高溫高壓和微射流,進一步剝離石墨片層,得到單層或多層石墨烯。

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    2025-10-14

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  • GMSD2000納米研磨機

    納米研磨機是新材料制備核心設備,通過研磨腔體內高速運動的研磨介質(如氧化鋯珠),對物料產生撞擊、剪切與研磨作用,將物料細化至納米級。可精準控制粒徑,獲窄分布體系,適配高粘度物料,且具備溫控、防污染設計。廣泛用于涂料、醫藥、新能源等領域,助力提升產品性能。

    更新時間

    2025-10-14

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