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  • XRS2000復(fù)方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機(jī)

    復(fù)方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機(jī)由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過(guò)高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

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  • XMD2000多糖分散液高剪切超高速分散機(jī)

    多糖分散液高剪切超高速分散機(jī)由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過(guò)高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

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  • XMD2000鈦酸鋰偶聯(lián)劑改性石墨烯研磨分散機(jī)

    鈦酸鋰偶聯(lián)劑改性石墨烯研磨分散機(jī)定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD2000肌酸粉高剪切混合分散機(jī)

    肌酸粉高剪切混合分散機(jī)由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過(guò)高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

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  • XRS2000硅酸脂改性碳納米管高剪切分散機(jī)

    硅酸脂改性碳納米管高剪切分散機(jī)由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過(guò)高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好

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  • XMD2000氧化銦錫光電應(yīng)用納米級(jí)分散機(jī)

    氧化銦錫光電應(yīng)用納米級(jí)分散機(jī)具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD二氧化鈦超高速研磨分散機(jī)

    二氧化鈦超高速研磨分散機(jī)定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD碳硅材料高剪切研磨分散機(jī)

    碳硅材料高剪切研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

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